芯片目前是各国大力发展的目标之一,而想要造出好芯片,就得需要先进的光刻机了。之前我国公布北斗三号芯片的精度达到了22纳米,这也说明了在光刻机领域我国也突破了22纳米。而就在我国芯片这边取得好消息不久,华为也宣布将成立半导体投资基建,这个项目也获得了国家的支持,在各方面都传来好消息的同时,这也意味着“中国芯”正加速崛起。
我国近些年在芯片领域取得了不小的进展,像“申威,龙芯,飞腾,海光等”,还有北斗系统上使用的28纳米制程工艺节点的芯片,都是国产的。早在2018年我国科研人员就制造出了最小工艺节点为22纳米的超分辨率光刻机,只要是非商业化的28纳米制程工艺节点的芯片都可以用该超分辨率光刻机制造,要知道北斗三号卫星的28纳米制程工艺节点的芯片就是国产化的。而美国只能制裁我国商用的28纳米制程工艺节点以下的芯片,也就是我们常用的手机,电脑中的高端芯片。而武器装备,卫星,超级计算机,科研仪器等用到的芯片制程并没有那么小,28纳米制程工艺节点的芯片就可以满足需求了。
在美国禁止晶圆代工厂代工麒麟芯片的这段时间内,国内手机行业受影响的也只是华为。其他品牌基本上不会受到影响,至于桌面级CPU那就更不用心了,可以看到的是,在短期内因特尔,AMD是不会停止出口CPU的,毕竟国内市场这么大,这两家公司也不傻,同时特朗普也不敢做的太过了。毕竟他是商人,还是要赚钱的,也要考虑国内科技企业的状态。由此可知,在各晶圆代工厂无法为华为代工芯片的这段时间内,国内也并不会出现所谓的真空期。为了尽快赶上国际水平,估计在五年内与半导体相关的软硬件都将被列为优先研发。
只要是被我国所重视的科技,要取得突破还是很快的。而国内也一直在为自产EUV光刻机做着努力,例如:研制光源的企业有科益虹源,镜头组的有国望光学,双工件台的有华卓精科,光刻胶的有南大光电等等。可以说,在未来我国的相关企业会在光刻机部件的研发上取得较大的成就。至于这个时间是多少,国内何时可以有自己的EUV光刻机,在五年内应该会有较大的突破。当然了,除了传统的硅基芯片之外,像碳基芯片,量子芯片,也是国际上下一个高新技术的迸发点,毕竟受制于摩尔定律传统硅基芯片的最小制程节点快到头了。
在量子芯片,碳基芯片的发展上我国与国际的差距也不大,甚至在某些方面还有超越,由此可知,在新兴芯片的发展上,我国绝对可以占据一席之地的。可以看出,我国在芯片领域正在处于一个高速发展的阶段,相信在未来,“中国芯”将会跻身世界前列,让各国都刮目相看。